sem掃描電鏡的發(fā)展歷史你了解嗎
日期:2022-08-15 10:11:55 瀏覽次數(shù):321
隨著對(duì)微納米技術(shù)的研究和材料分析的需要,掃描電鏡在科研領(lǐng)域越來越重要,是光學(xué)顯微鏡無法比擬的。那么今天我們就給大家來講述下sem掃描電鏡的發(fā)展歷史。
電子顯微鏡通常可分為掃描電子顯微鏡和透射電子顯微鏡兩類,是材料微觀分析的重要工具之一,被廣泛應(yīng)用于材料、化工、醫(yī)學(xué)、生物等各個(gè)領(lǐng)域。
電鏡的發(fā)展歷史
1924年:波粒二相性理論的提出
法國(guó)物理學(xué)家德布羅意指出:一切接近于光速運(yùn)動(dòng)的粒子均具有波的性質(zhì)。人們由此聯(lián)想是否可利用波長(zhǎng)更短的電子波代替可見光成像?
1926年:磁透鏡聚焦理論的提出
德國(guó)學(xué)者 H. Busch 提出了運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)理論。他指出:具有軸對(duì)稱的磁場(chǎng)對(duì)電子束具有聚焦作用。這為電子顯微鏡的發(fā)明提供了重要的理論依據(jù)。
1931年:**個(gè)電子圖像的獲得
德國(guó)學(xué)者Knoll和Ruska頭次獲得了放大12倍銅網(wǎng)的電子圖像。證明可用電子束和磁透鏡進(jìn)行成像。
1931-1934年:**臺(tái)透射電鏡的誕生
1939年研制成功世界上**臺(tái)商品透射電鏡,分辨率優(yōu)于 100埃;1954年進(jìn)一步研制成功Elmiskop I型透射電鏡,分辨率優(yōu)于10埃。
1939年:**臺(tái)商品透射電鏡的問世
德國(guó)學(xué)者魯斯卡等研制成功世界上**臺(tái)透射電子顯微鏡,至1934年其分辨率達(dá)到了500 埃。魯斯卡因?yàn)樵陔婄R光學(xué)基礎(chǔ)研究及以上貢獻(xiàn)獲得了1986年諾貝爾物理獎(jiǎng)。
1935年:頭次提出掃描電鏡概念。
在透射電鏡的基礎(chǔ)上, 1935年德國(guó)學(xué)者諾爾頭次提出了sem掃描電鏡的概念,1952年劍橋大學(xué)Oatley等制作了出掃描電鏡。
1965年:**臺(tái)商品掃描電鏡
1965年劍橋大學(xué)推出**臺(tái)商品sem掃描電鏡。目前其發(fā)展方向是場(chǎng)發(fā)射型高分辨掃描電鏡和環(huán)境掃描電鏡。
聯(lián)系我們
全國(guó)服務(wù)熱線
4001-123-022
公司:微儀光電臺(tái)式掃描電子顯微鏡銷售部
地址:天津市東麗區(qū)華明**產(chǎn)業(yè)區(qū)華興路15號(hào)A座
相關(guān)資訊推薦
- SEM掃描電鏡的核心技術(shù)是什么
- SEM掃描電鏡常見問題之圖像異常深度解析與優(yōu)化策略
- SEM掃描電鏡常見問題之特殊樣品處理方案
- SEM掃描電鏡常見問題之:樣品荷電、異常明亮的原因及解決辦法解析
- SEM掃描電鏡在工業(yè)質(zhì)檢行業(yè)中的應(yīng)用介紹
- SEM掃描電鏡制樣全攻略分享:從樣品處理到成像優(yōu)化的指南
- SEM掃描電鏡選擇指南:臺(tái)式掃描電鏡與落地式掃描電鏡對(duì)比分析
- SEM掃描電鏡制樣全攻略:從導(dǎo)電處理到高分辨成像的核心技巧
- SEM掃描電鏡測(cè)樣操作困難嗎?一文解析操作難點(diǎn)與參數(shù)優(yōu)化技巧
- SEM掃描電鏡有哪些成像技巧分享:從樣品制備到高階成像的實(shí)戰(zhàn)攻略